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		<title>tkatさんのタグ“半導体”の資料</title>
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		<description>tkatさんのタグ“半導体”の資料</description>
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			<title><![CDATA[ディジタルICの分類]]></title>
			<link><![CDATA[https://www.happycampus.co.jp/docs/983428572401@hc07/16171/]]></link>
			<author><![CDATA[ by tkat]]></author>
			<category><![CDATA[tkatの資料]]></category>
			<pubDate>Wed, 19 Dec 2007 02:47:38 +0900</pubDate>
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			<description><![CDATA[<a href="https://www.happycampus.co.jp/docs/983428572401@hc07/16171/" target="_blank"><img src="/docs/983428572401@hc07/16171/thmb.jpg?s=s&r=1198000058&t=n" border="0"></a><br /><br />ディジタルICの分類
　ディジタルICの種類と特徴についてまとめた (3),(4)。
　ディジタルICは、半導体基盤内部に形成された能動素子がnpnやpnpなどのバイポーラ形素子から作られているバイポーラICとMOSなどのユニポーラ形素子か]]></description>

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			<title><![CDATA[半導体デバイスの基礎特性]]></title>
			<link><![CDATA[https://www.happycampus.co.jp/docs/983428572401@hc07/49168/]]></link>
			<author><![CDATA[ by tkat]]></author>
			<category><![CDATA[tkatの資料]]></category>
			<pubDate>Wed, 20 May 2009 21:30:52 +0900</pubDate>
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			<description><![CDATA[<a href="https://www.happycampus.co.jp/docs/983428572401@hc07/49168/" target="_blank"><img src="/docs/983428572401@hc07/49168/thmb.jpg?s=s&r=1242822652&t=n" border="0"></a><br /><br />目的
　半導体デバイスの基本であるpn接合を用いたダイオードに関して，電気的・光電的基礎特性を測定し，測定結果の解析から，半導体材料やpn接合の不純物濃度分布などに起因した特性の違いを把握し，半導体デバイスの動作原理の理解を深める．
理]]></description>

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			<title><![CDATA[半導体微細化の危機]]></title>
			<link><![CDATA[https://www.happycampus.co.jp/docs/983428572401@hc07/24103/]]></link>
			<author><![CDATA[ by tkat]]></author>
			<category><![CDATA[tkatの資料]]></category>
			<pubDate>Sat, 13 Sep 2008 00:15:36 +0900</pubDate>
			<guid><![CDATA[https://www.happycampus.co.jp/docs/983428572401@hc07/24103/]]></guid>
			<description><![CDATA[<a href="https://www.happycampus.co.jp/docs/983428572401@hc07/24103/" target="_blank"><img src="/docs/983428572401@hc07/24103/thmb.jpg?s=s&r=1221232536&t=n" border="0"></a><br /><br />半導体微細化の危機
半導体の微細化について、主に半導体微細化の限界について調査した。
[1]http://aawbite.com/ITEC205/1240_Moores.htm
　　　　　
「半導体の集積密度は
18
～
24
ヶ月で倍増す]]></description>

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			<title><![CDATA[半導体工学]]></title>
			<link><![CDATA[https://www.happycampus.co.jp/docs/983428572401@hc07/14108/]]></link>
			<author><![CDATA[ by tkat]]></author>
			<category><![CDATA[tkatの資料]]></category>
			<pubDate>Fri, 20 Jul 2007 22:37:01 +0900</pubDate>
			<guid><![CDATA[https://www.happycampus.co.jp/docs/983428572401@hc07/14108/]]></guid>
			<description><![CDATA[<a href="https://www.happycampus.co.jp/docs/983428572401@hc07/14108/" target="_blank"><img src="/docs/983428572401@hc07/14108/thmb.jpg?s=s&r=1184938621&t=n" border="0"></a><br /><br />１．シリコンの真性フェルミ順位を-78℃、27℃、300℃について求めよ。また、禁制ギャップの中央にそれがあると仮定するのは妥当か。
の式に 、 、 を各温度[k]において代入する。
(ⅰ)T=195[k]
(ⅱ)T=300[k]
(ⅲ)T]]></description>

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