半導体微細化の危機

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    半導体微細化の危機
    半導体の微細化について、主に半導体微細化の限界について調査した。
    [1]http://aawbite.com/ITEC205/1240_Moores.htm
         
    「半導体の集積密度は
    18

    24
    ヶ月で倍増する」
     過去にも何度か技術的課題に突き当たりながらも、ムーアの
    法則とよばれる半導体集積技術の経験則にほぼリニアに従いながら、半導体の微細化が現在まで進められてき
    ている。しかし、物理学者のスティーブンホーキンズ氏が指摘するように、ムーアの法則は光の速度と原子レベ
    ルの問題で壁に突き当たると考えられており、しかもそのムーアの壁が
    10
    数年後に迫っている。しかし、
    LSI

    高性能化や低価格化の主役だった微細化技術が、ムーアの法則の壁の前に限界を迎えつつある。それは、次
    にあげるようなものが原因となっており、大きくわと技術的なの経なものが原因となっている。
    半導体の
    問題
    90nm
    65nm
    に微細化しても低コスト化がかしい。

    DRAM
    のがい
    65

    45nm
    キャパシタの化が難しい
    がなる
    32

    22nm
    ながたらない
     
    (
    のが学..

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